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詳細介紹
KLA-Tencor AIT XP 晶圓檢測儀
是一種先進的晶圓測試和計量系統(tǒng),專為半導體制造過程中的缺陷檢測和過程控制而設計。該系統(tǒng)利用高精度的成像技術和專有算法,能夠快速、準確地識別和分析晶圓上的缺陷,從而提高生產效率和產品質量。
KLA-Tencor AIT XP 系統(tǒng)具有以下特點:
高速度和高通量:該系統(tǒng)能夠在80秒內完成整個圖案化晶圓的檢查,并且具有較高的缺陷捕獲率,這使得其相比現有系統(tǒng)可以提高多達75%的吞吐量。
先進的檢測技術:KLA-Tencor AIT XP 使用暗場顯微鏡技術進行缺陷檢測,結合混合模式檢測(Mixed Mode Detection),以滿足0.13微米及更小設計規(guī)則的需求。
模塊化設計:該系統(tǒng)包括一個模塊化的片上芯片(SOC),配備激光二極管陣列,以提高測量的可靠性和重復性。
自動化功能:KLA-Tencor AIT XP 配備了自動探針加載和高級算法,以確保精確的質量保證評估和過程控制。
廣泛的應用范圍:該系統(tǒng)不僅適用于掩模車間和晶圓廠,還適用于其他半導體鑄造廠,支持多層能耗層計量和深度學習及人工智能等先進技術。
動態(tài)優(yōu)化:通過使用KLA的NexTek技術,AIT XP能夠實時監(jiān)控并優(yōu)化光刻模塊工藝和非光刻模塊工藝,從而提升整體工藝控制水平。
總之,KLA-Tencor AIT XP 是一款功能強大且高效的晶圓測試和計量設備,通過其先進的檢測技術、自動化功能和模塊化設計,能夠顯著提升半導體制造過程中的缺陷檢測能力和生產效率。
商業(yè)可用系統(tǒng)
高速檢測高級設備
單次通過圖案晶圓
深場探測系統(tǒng)
支持0.13um及以上設計規(guī)則過程
高缺陷捕獲率,吞吐量提升75%
半導體制造過程控制
晶圓測試和計量設備
自動化探針加載
先進算法提高準確性和重復性
模塊化系統(tǒng)設計
面向半導體行業(yè)設計
提供高水平的工藝控制和資產利用率
產品咨詢