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簡要描述:Applied Materials CX 200 掃描電子顯微鏡設備概述型號: SEMVision CX 200制造商: Applied Materials應用領域: 半導體制造環(huán)境主要特性光學系統(tǒng): 0.2 NA 光學系統(tǒng)高分辨率彩色相機電動龍門CO2激光準直光學設計低噪聲冷卻CCD相機可調LED光源多測量模式
詳細介紹
型號: SEMVision CX 200
制造商: Applied Materials
應用領域: 半導體制造環(huán)境
光學系統(tǒng): 0.2 NA 光學系統(tǒng)
高分辨率彩色相機
電動龍門
CO2激光準直光學設計
低噪聲冷卻CCD相機
可調LED光源
多測量模式
改進的性能和產(chǎn)量監(jiān)控
支持先進集成電路設計的制造
檢測微觀尺度的缺陷和非均勻區(qū)域
自動化掩模書寫功能
自動化檢查技術
單晶圓檢測速度: ≤90 s (在流水線模式下)
單晶圓缺陷吞吐量: ≤500 DPH (可選600 DPH)
單晶圓吞吐量: ≥8 晶圓/小時 (50個缺陷/晶圓)
清潔等級: Class 1 可接受外界條件影響的結霜對機組性能的影響
API參數(shù): +/-1.5um API (Automatic Process Control)
Applied Materials CX 200掃描電子顯微鏡是一款高性能、高精度的掩模和晶圓檢測設備,憑借其先進的光學系統(tǒng)、強大的圖像處理能力和高效的自動化功能,能夠滿足現(xiàn)代半導體生產(chǎn)中對缺陷檢測的嚴格要求。
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